供应 AE-100M万濠纳米白光干涉仪

供应 AE-100M万濠纳米白光干涉仪

产品用途：
结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜，结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序，兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点，可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量，适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含：玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。

供应 AE-100M万濠纳米白光干涉仪

产品特点:
● 纳米深度3D检测
● 高速、无接触量
● 表面形状、粗糙度分析
● 非透明、透明材质皆适用
● 非电子束、非雷射的安全量测
● 低维护成本
专业级的3D图形处理与分析软体（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析
● 提供自动表面平整化处理功能
● 提供高阶标准片的软件自校功能
● 深度、高度分析功能提供线性分析与区域分析等两种方式
● 线性分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度（Roughness）与起伏度
● （waviness）的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据（Wafer）
● 区域分析方式提供图形分析与统计分析
● 具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换（FFT）处理功能
● 量测分析结果以BMP等多种图形档案格式输出或是Excel文本文件格式输出
高速精密的干涉解析软件(ImgScan)：
● 系统硬件搭配ImgScan前处理软件自动解析白光干涉条纹
● 垂直高度可达0.1nm
● 高速的分析算法则，让你不在苦候测量结果
● 垂直扫描范围的设定轻松又*
● 有10X、20X、50X倍率的物镜可供选择
● 平台X、Y、Z位置数字式显示，使检测目标寻找快速又便利
● 具有手动/自动光强度调整功能以取得较佳的干涉条纹对比
● 具有高精度的PVSI与高速VSI扫描测量模式供选择
● 具有**的解析算法则可处理半透明物体的3D形貌
● 具有自动补点功能
● 可自行设定扫描方向

技术规格参数： 

型号	AE-100M
移动台(mm)	平台尺寸100*100 ，行程13*13
物镜放大倍率	10X	20X	50X
观察与量测范围(mm)	0.43*0.32	0.21*0.16	0.088*0.066
光学分辨力(μm)	0.92	0.69	0.5
收光角度(Degrees)	17	23	33
工作距离	7.4	4.7	3.4
传感器分辨率	640*480像素
机台重量(kg)/载重kg	20kg/小于1kg
Z轴移动范围	45mm , 手动细调;可订制150mm
Z轴位置数字显示器	分辨力1μm
倾斜调整平台	双轴/手动调整
高度测量
测量范围	100(μm)(400μm ,选配)
量测分辨力	0.1nm
重复精度	≤ 0.1％ (量测高度:>10μm)
≤10nm(量测高度1μm 10μm)
≤ 5nm(量测高度:<1μm )
量测控制	自动
扫描速度(μm/s)	12(较高)
光源
光源类型	仪器用卤素（冷）光源
平均使用寿命
1000小时100W 500小时（150W）
光强度调整	自动/手动
数据处理与显示用计算机
*处理运算屏幕	双核心以上CPU
影像与数据显示屏幕	21" 双晶屏幕
操作系统	Win7
电源与环境要求	AC100 --240 V 50-60Hz
环境振动	VC-C等级以上
测量分析软件
量测软件ImgScan	ImgScan测量软件：具VSI/ PVSI/PSI 测量模式（PSI量测模式需另选配PSI模块搭配）
分析软件PosTopo	ISO 粗燥度/阶高分析，快速传利叶转换和滤波，多样的2D和3D
观测视角图，外形/面积/体积分析，图像缩放、标准影像文件格式转换
报表输出，程序教导测量等。